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Deposição química de vapor (CVD)

OTF-1200X-80-F3LV Single-Zone CVD Furnace with Gas Mixer

ModeloOTF-1200X-80-F3LV

An 80 mm quartz-tube CVD system with three gas channels, a mechanical vacuum pump and corrosion-resistant vacuum measurement for controlled-atmosphere experiments.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Quartz tube 80 mm OD x 75 mm ID x 1000 mm L
Heating zone 400 mm; uniform zone 150 mm
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Quartz tube 80 mm OD x 75 mm ID x 1000 mm L
Heating zone 400 mm; uniform zone 150 mm
Gas flow ranges 3 channels: 10–100, 16–160, 25–250 cc/min
Vacuum gauge range 10^-5–1000 Torr

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Descrição do produto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.