OTF-1200X-Mist Four-Gas Mist CVD Growth Furnace
A mist-assisted film-growth furnace with a 400 mm heating zone, ultrasonic atomization and four-channel mass-flow delivery for precursor and carrier-gas studies.
- Configuração final confirmada antes da cotação
- Personalização e acessórios revisados pela aplicação
- Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Especificações técnicas
As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.
Key specifications
| Maximum temperature | 1200 °C |
|---|---|
| Heating zone | 400 mm; 125 mm uniform zone |
| Quartz tube | 60 mm OD x 54 mm ID x 1000 mm L |
| Atomization and feed | 1.7 MHz; 0.004–70 mL/min |
| Gas control | 4 MFC channels, 0–500 mL/min; ±0.2% FS |
As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.
Descrição do produto
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Para compradores internacionais, a confirmação pode incluir configuração, acessórios, embalagem, documentos de exportação, fotos ou vídeos de inspeção e termos de envio.
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