化学气相沉积（CVD）
OTF-1200X-Mist 四路气体雾化 CVD 生长炉
型号OTF-1200X-Mist
配置 400 mm 加热区、超声雾化及四路质量流量供气的薄膜生长炉，适合前驱体和载气工艺研究。
最高温度
1200 °C
加热区
400 mm；均温区 125 mm
石英管
外径 60 × 内径 54 × 长 1000 mm
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 最高温度 | 1200 °C |
|---|---|
| 加热区 | 400 mm；均温区 125 mm |
| 石英管 | 外径 60 × 内径 54 × 长 1000 mm |
| 雾化与供液 | 1.7 MHz; 0.004–70 mL/min |
| 气体控制 | 4 路 MFC，0–500 mL/min；±0.2% FS |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
产品详情
订购前请与 LabSova 确认前驱体或样品兼容性、炉管及法兰配置、气体、抽气、冷却、排风和供电要求。图片可能包含选配附件，供货以双方确认配置为准。温度额定值不代表该温度下允许任意真空或压力条件。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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