化学气相沉积（CVD）
OTF-1200X-4-NW-UL 固态前驱体 CVD 管式炉
型号OTF-1200X-4-NW-UL
配独立固态源加热器及多路气体入口的开启式 CVD 管式炉，用于纳米线和薄膜生长实验。
工作温度
连续 200–1000 °C；1100 °C 使用少于 2 小时
石英管
外径 110 × 内径 103 × 长 740 mm
加热区
440 mm；均温区 100 mm
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 工作温度 | 连续 200–1000 °C；1100 °C 使用少于 2 小时 |
|---|---|
| 石英管 | 外径 110 × 内径 103 × 长 740 mm |
| 加热区 | 440 mm；均温区 100 mm |
| 样品架 | 3 英寸 |
| 温控程序 | 30 段；±1 °C |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
产品详情
订购前请与 LabSova 确认前驱体或样品兼容性、炉管及法兰配置、气体、抽气、冷却、排风和供电要求。图片可能包含选配附件，供货以双方确认配置为准。温度额定值不代表该温度下允许任意真空或压力条件。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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