OTF-1200X-4-NW-UL Solid-Precursor CVD Tube Furnace
A split-tube CVD furnace with a separate solid-source heater and multiple gas inlets for nanowire and thin-film growth experiments.
- Configuração final confirmada antes da cotação
- Personalização e acessórios revisados pela aplicação
- Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Especificações técnicas
As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.
Key specifications
| Operating temperature | 200–1000 °C continuous; 1100 °C for <2 h |
|---|---|
| Quartz tube | 110 mm OD x 103 mm ID x 740 mm L |
| Heating zone | 440 mm; uniform zone 100 mm |
| Sample holder | 3 in |
| Temperature program | 30 segments; ±1 °C |
As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.
Descrição do produto
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Para compradores internacionais, a confirmação pode incluir configuração, acessórios, embalagem, documentos de exportação, fotos ou vídeos de inspeção e termos de envio.
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