实验室研磨与抛光设备
按样品尺寸、工作盘转速、加载方式和制样流程，比较台式研磨机、晶片研磨系统、振动抛光机及配套供液器。
16 个可选产品
UNIPOL-300 微型自动研磨抛光机，适用 25 mm 样品
用于单个金相及透射电镜样品的研磨抛光。UNIPOL-300 采用 3 英寸固定研磨盘和移动式样品夹持机构，配合可调弹簧载荷与定时控制，适合实验室小样品制备。
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UNIPOL-800 台式 8 英寸研磨抛光机，500–3000 rpm
UNIPOL-800 为直驱式台式研磨抛光机，采用 8 英寸工作盘，转速范围为 500–3000 rpm，可通过更换金刚石磨盘与抛光垫完成不同制样步骤。
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EQ-UNIPOL-820 双盘 8 英寸研磨抛光机，双盘独立调速
EQ-UNIPOL-820 配备两个 8 英寸工作盘，每个盘由独立的 300 W 电机驱动并支持数字调速，可分别设置研磨与抛光工位，磁性装夹便于更换砂纸和抛光垫。
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UNIPOL-810 固定支臂 8 英寸精密研磨抛光机
UNIPOL-810 将 8 英寸研磨盘、固定支臂、修整环和平面样品夹具集成于台式机身，转速最高 600 rpm，适用于平面零件和实验室镶嵌样品的研磨抛光。
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UNIPOL-802 双工位 8 英寸研磨抛光机
UNIPOL-802 在 8 英寸工作盘上配置两个可独立摆动的制样工位，盘速范围为 0–250 rpm，支持定时控制，并可使用铸铁盘或铝盘完成研磨与抛光。
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UNIPOL-900Z / UNIPOL-1200Z 实验室振动抛光机
按工作盘尺寸和实验台空间选择振动抛光平台。UNIPOL-900Z 与 UNIPOL-1200Z 的工作盘直径分别为 231 mm 和 304.8 mm，用于实验室样品的振动精抛。
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UNIPOL-1202 双工位 12 英寸晶片研磨抛光机
UNIPOL-1202 使用 12 英寸工作盘，可同时处理两片直径最大 4 英寸的晶片。两个独立摆动工位、定时运行及可更换材质的工作盘适用于实验室研磨抛光流程。
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UNIPOL-1200S 压力可控 300 mm 自动研磨抛光机
UNIPOL-1200S 支持分别调节工作盘转速、样品转速和加载力，配备 300 mm 抛光盘及触摸屏，适合多样品金相制备与较长时间的研磨抛光。
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UNIPOL-1203 双工位 300 mm 自动 CMP 抛光机，配自动供液
UNIPOL-1203 集成两个独立控制工位、300 mm 不锈钢抛光盘和自动供液装置，通过触摸屏协调盘面运动与抛光时间，面向实验室化学机械抛光流程。
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UNIPOL-1502 15 英寸精密晶片抛光机，支持三片 4 英寸样品
UNIPOL-1502 在 15 英寸工作盘周围配置三个支臂，可处理三片 4 英寸样品，也可按夹具配置处理单片较大晶片，盘速最高 125 rpm。
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UNIPOL-1500-S16 全自动金相抛光机，最多 16 个样品
UNIPOL-1500-S16 在 380 mm 抛光盘上设置两个上部样品盘，每批最多处理 16 个镶嵌样品，可通过触摸屏设置载荷、转速和抛光时间，适合批量金相制样。
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UNIPOL-2001 三工位 20 英寸精密研磨抛光机
UNIPOL-2001 采用 508 mm 工作盘及三个独立控制的摆动工位，面向较大晶片制备，设备功率 1.7 kW，可使用铸铁盘与铝盘完成研磨抛光。
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UNIPOL-1210S 自动研磨抛光系统，配样品输送机构
UNIPOL-1210S 集成研磨、抛光与样品托盘输送，可采用五样品夹具，并调节主轴转速、加载及工艺速度，适合自动化制样流程。
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UNIPOL-1210M 金相制样系统，集成热镶嵌与自动研磨抛光
UNIPOL-1210M 将热镶嵌、磨料更换、研磨抛光和超声清洗整合为自动化流程，每个镶嵌周期最多处理六个样品，并可存储最多 16 组研磨抛光耗材。
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EQ-SKZD-4 四通道抛光供液器
EQ-SKZD-4 通过四个独立的 600 mL 容器供应抛光悬浮液，支持调节流量和供液时间，用于多阶段抛光流程配套；本产品是供液附件，不是独立抛光机。
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UNIPOL-1503 自动 15 英寸晶片抛光机，支持厚度控制
UNIPOL-1503 配备 15 英寸工作盘、三个 4 英寸样品工位和蓝牙厚度控制，通过 PLC 与 10 英寸触摸屏协调工作盘旋转和支臂摆动，用于自动晶片抛光。
查看规格 →先明确工艺需求，再比较工作范围、腔体或工作尺寸、控制精度、附件、公用条件和运输限制。
- 确认材料、样品尺寸和目标结果。
- 检查电压、安装空间和公用条件要求。
- 确认附件、备件、包装和文件范围。