实验室研磨与抛光设备
UNIPOL-1202 双工位 12 英寸晶片研磨抛光机
型号UNIPOL-1202
UNIPOL-1202 使用 12 英寸工作盘，可同时处理两片直径最大 4 英寸的晶片。两个独立摆动工位、定时运行及可更换材质的工作盘适用于实验室研磨抛光流程。
工作盘直径
12 英寸
样品容量
2 片晶片，每片直径最大 4 英寸
工作盘转速
0–125 rpm
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
典型应用
- 晶片研磨抛光
- 每批两个平面样品制备
设备特点
主要产品特点
-
两个独立控制的摆动工位
-
铸铁盘及铝盘配置
-
工作盘转速数字设置
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 工作盘直径 | 12 英寸 |
|---|---|
| 样品容量 | 2 片晶片，每片直径最大 4 英寸 |
| 工作盘转速 | 0–125 rpm |
| 盘面跳动 | 小于 5 µm |
| 摆动频率 | 0–9 次/分钟 |
| 样品夹具尺寸 | 直径 105 × 厚度 35 mm |
| 定时范围 | 0–99 小时 |
| 电机功率 | 300 W 直流电机 |
| 供电 | 208–240 V AC，50/60 Hz；可选 110 V 变压器方案 |
| 标称机器重量 | 154 磅 |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
请依据夹具和修整环尺寸核对样品适配性。供液装置及手套箱兼容等特殊配置需单独确认。
图片可能包含选配附件。供电、夹具、耗材及交付范围以最终报价确认清单为准。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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