实验室研磨与抛光设备
UNIPOL-1203 双工位 300 mm 自动 CMP 抛光机，配自动供液
型号UNIPOL-1203
UNIPOL-1203 集成两个独立控制工位、300 mm 不锈钢抛光盘和自动供液装置，通过触摸屏协调盘面运动与抛光时间，面向实验室化学机械抛光流程。
抛光盘
直径 300 mm，不锈钢
工作盘转速
1–240 rpm
工位数量
2 个
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
典型应用
- 实验室化学机械抛光
- 晶片与晶体衬底表面制备
设备特点
主要产品特点
-
两个独立控制工位
-
自动供液及可调供液速度
-
可选精密夹具，适配最大 100 mm 样品
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 抛光盘 | 直径 300 mm，不锈钢 |
|---|---|
| 工作盘转速 | 1–240 rpm |
| 工位数量 | 2 个 |
| 夹具 / 修整环 | 夹具直径 105 mm；修整环直径 127.5 mm |
| 盘面跳动 | 小于 5 µm |
| 浆料容量 | 约 3.8 L |
| 供液器粒径限制 | 小于 40 µm |
| 选配夹具样品限制 | 最大直径 100 mm；最大厚度 12 mm |
| 供电 | 208–240 V AC，50 Hz，450 W |
| 基础机尺寸 | 550 × 700 × 420 mm，不含选配附件 |
| 净重 | 74 kg |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
100 mm 样品能力对应选配的精密夹具。请选用粒径低于供液器限制的浆料，并确认与样品材料的兼容性。
图片可能包含选配附件。供电、夹具、耗材及交付范围以最终报价确认清单为准。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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