实验室研磨与抛光设备
UNIPOL-802 双工位 8 英寸研磨抛光机
型号UNIPOL-802
UNIPOL-802 在 8 英寸工作盘上配置两个可独立摆动的制样工位，盘速范围为 0–250 rpm，支持定时控制，并可使用铸铁盘或铝盘完成研磨与抛光。
工作盘直径
8 英寸
工位数量
2 个，可独立摆动
工作盘转速
0–250 rpm
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
典型应用
- 晶片与平面样品制备
- 双工位实验室研磨抛光
设备特点
主要产品特点
-
两个独立摆动工位
-
铸铁研磨盘与铝制抛光盘
-
可选配自动供液装置
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 工作盘直径 | 8 英寸 |
|---|---|
| 工位数量 | 2 个，可独立摆动 |
| 工作盘转速 | 0–250 rpm |
| 摆动频率 | 0–20 次/分钟 |
| 定时范围 | 0–99 小时 |
| 电机功率 | 300 W 直流电机 |
| 修整环尺寸 | 外径 95 × 内径 88 × 厚度 32 mm |
| 供电 | 110 V / 208–240 V AC 可切换，50/60 Hz |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
请按晶片直径确认样品夹具和修整环。自动供液属于选配配置，不作为默认配置承诺。
图片可能包含选配附件。供电、夹具、耗材及交付范围以最终报价确认清单为准。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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