实验室研磨与抛光设备
UNIPOL-2001 三工位 20 英寸精密研磨抛光机
型号UNIPOL-2001
UNIPOL-2001 采用 508 mm 工作盘及三个独立控制的摆动工位，面向较大晶片制备，设备功率 1.7 kW，可使用铸铁盘与铝盘完成研磨抛光。
工作盘
直径 508 mm（20 英寸）
工作盘转速
20–90 rpm
工位数量
3 个独立控制的摆动工位
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
典型应用
- 大尺寸晶片研磨抛光
- 三工位实验室制样
设备特点
主要产品特点
-
三个独立摆动工位
-
20 英寸工作盘
-
配置 6 英寸夹具，8 英寸夹具需另行确认
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 工作盘 | 直径 508 mm（20 英寸） |
|---|---|
| 工作盘转速 | 20–90 rpm |
| 工位数量 | 3 个独立控制的摆动工位 |
| 样品夹具 | 三个 6 英寸夹具；8 英寸夹具需另行确认 |
| 样品盘尺寸 | 直径 160 × 厚度 35 mm |
| 供电 | 220 V AC，单相，50/60 Hz，1.7 kW |
| 机器尺寸 | 1180 × 820 × 945 mm |
| 机器重量 | 450 kg |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
需确认地面承载、安装空间及晶片夹具尺寸。机器重量为 450 kg，安装条件不同于小型台式抛光机。
图片可能包含选配附件。供电、夹具、耗材及交付范围以最终报价确认清单为准。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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