设备分类
实验室炉
用于气相沉积、可控气氛加热和熔融加工的实验室炉及工艺系统。
55 个可选产品
OTF-1200X-ALD 等离子辅助管式原子层沉积炉
ALD-800X-4-PE 旋转样品台等离子原子层沉积系统
ALD-1200X-R-4 旋转管式原子层沉积炉
ALD-1200X-4 双温区管式原子层沉积系统
GSL-1100-Micro 原位观察微型 CVD/PVD 炉
OTF1200XSF2 紧凑型双路气体 CVD 管式炉
OTF-1200X-S-Mist 紧凑型超声雾化 CVD 炉
OTF-1200X-Mist 四路气体雾化 CVD 生长炉
OTF1200XIII-PGEP 三温区超声喷雾热解系统
OTF-1200X-PGEP 管式炉喷雾热解系统
GSL-1800X-PGEP 高温喷雾热解炉
OTF-1200X-4-NW-UL 固态前驱体 CVD 管式炉
如何比较这个分类
先明确工艺需求，再比较工作范围、腔体或工作尺寸、控制精度、附件、公用条件和运输限制。
- 确认材料、样品尺寸和目标结果。
- 检查电压、安装空间和公用条件要求。
- 确认附件、备件、包装和文件范围。