设备分类
实验室炉
用于气相沉积、可控气氛加热和熔融加工的实验室炉及工艺系统。
55 个可选产品
OTF-1200X-III-RR 卷对卷 CVD 薄膜生长炉
GSL-1100X-III-D11 大面积双管石墨烯 CVD 炉
OTF-1200X-II-80HG-UL 湿度监测 CVD 管式炉
MIST-1600-6 感应加热雾化 LPCVD 反应系统
GSL-1600X-CFM 连续碳纳米管雾化 CVD 系统
OTF-1200X-III-5-C3LVSF 滑动法兰三温区 CVD 炉
GSL-1700X-PRY-UL-LD 高温真空调压管式炉
GSL-1700X-F3LV 氧化铝管三路混气 CVD 炉
GSL-1700X-60-III-F3LV 三温区氧化铝管 CVD 炉
GSL-1700X-4-HVC-LD 高真空氧化铝管炉
LVD-F1 温控 CVD 液体汽化供给系统
MSKUSP17SP 雾化 CVD 超声前驱体发生器
如何比较这个分类
先明确工艺需求，再比较工作范围、腔体或工作尺寸、控制精度、附件、公用条件和运输限制。
- 确认材料、样品尺寸和目标结果。
- 检查电压、安装空间和公用条件要求。
- 确认附件、备件、包装和文件范围。