设备分类
实验室炉
用于气相沉积、可控气氛加热和熔融加工的实验室炉及工艺系统。
55 个可选产品
OTF-1200X-HVC3-series 高真空 CVD 炉工作站
OTF-1200X-80-F3LV 单温区混气 CVD 管式炉
OTF-1200X-II-F3LV 双温区三路供气 CVD 炉
OTF-1200X-III-80-F3LV 三温区混气 CVD 管式炉
OTF-1200X-III-HVC-LD 三温区高真空 CVD 工作站
GSL-1100X-8.5-III-SR 大口径三温区 CVD 炉
OTF-1200X-4-III-9HV 九路气体高真空 CVD 炉
OTF-1200X-S-50-DFSL 双滑动热 CVD 管式炉
OTF-1200X-II-PEC4 旋转等离子增强复合 CVD 炉
OTF-1200X-II-ZL 多源复合 PVD/CVD 炉
OTF-1200X-III-HPCVD-S3 三温区复合气相沉积炉
OTF-1200X-80-F3LV-PTFE 耐腐蚀气路 CVD 炉系统
如何比较这个分类
先明确工艺需求，再比较工作范围、腔体或工作尺寸、控制精度、附件、公用条件和运输限制。
- 确认材料、样品尺寸和目标结果。
- 检查电压、安装空间和公用条件要求。
- 确认附件、备件、包装和文件范围。