化学气相沉积（CVD）
OTF-1200X-III-HPCVD-S3 三温区复合气相沉积炉
型号OTF-1200X-III-HPCVD-S3
大口径复合 PVD/CVD 平台，配置三个独立温区及独立源材料供给通道，适合顺序沉积和共蒸发研究。
工作温度
连续 100–1100 °C；1200 °C 使用少于 1 小时
加热区
3 × 300 mm
主石英管
外径 130 × 内径 122 × 长 1200 mm
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 工作温度 | 连续 100–1100 °C；1200 °C 使用少于 1 小时 |
|---|---|
| 加热区 | 3 × 300 mm |
| 主石英管 | 外径 130 × 内径 122 × 长 1200 mm |
| 气体控制 | 4 路，PLC 触摸屏控制 |
| 供电 | 208–240 V AC，单相；10 kW |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
产品详情
源材料供给通道数量和运动方式需按所选配置确认。
订购前请与 LabSova 确认前驱体或样品兼容性、炉管及法兰配置、气体、抽气、冷却、排风和供电要求。图片可能包含选配附件，供货以双方确认配置为准。温度额定值不代表该温度下允许任意真空或压力条件。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
相关设备
