OTF-1200X-III-HPCVD-S3 Three-Zone Hybrid Deposition Furnace
A large-bore hybrid PVD/CVD platform for sequential deposition and co-evaporation studies, with three independently heated zones and separately controlled source feed channels.
- Configuração final confirmada antes da cotação
- Personalização e acessórios revisados pela aplicação
- Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Especificações técnicas
As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.
Key specifications
| Operating temperature | 100–1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h |
|---|---|
| Heating zones | 3 x 300 mm |
| Main quartz tube | 130 mm OD x 122 mm ID x 1200 mm L |
| Gas control | 4 channels with PLC touchscreen |
| Power supply | 208–240 V AC, single phase; 10 kW |
As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.
Descrição do produto
The number and motion of source feed channels require confirmation for the selected configuration.
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Para compradores internacionais, a confirmação pode incluir configuração, acessórios, embalagem, documentos de exportação, fotos ou vídeos de inspeção e termos de envio.
Mais desta categoria
OTF1200XSF2 Compact Two-Gas CVD Tube Furnace
OTF-1200X-S-Mist Compact Ultrasonic Mist CVD Furnace
OTF-1200X-Mist Four-Gas Mist CVD Growth Furnace
OTF1200XIII-PGEP Three-Zone Ultrasonic Spray Pyrolysis System
OTF-1200X-PGEP Tube-Furnace Spray Pyrolysis System
GSL-1800X-PGEP High-Temperature Spray Pyrolysis Furnace
OTF-1200X-4-NW-UL Solid-Precursor CVD Tube Furnace
