OTF-1200X-III-HPCVD-S3 Three-Zone Hybrid Deposition Furnace
A large-bore hybrid PVD/CVD platform for sequential deposition and co-evaporation studies, with three independently heated zones and separately controlled source feed channels.
- Configuración final confirmada antes de cotizar
- Personalización y accesorios revisados según la aplicación
- Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Especificaciones técnicas
Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.
Key specifications
| Operating temperature | 100–1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h |
|---|---|
| Heating zones | 3 x 300 mm |
| Main quartz tube | 130 mm OD x 122 mm ID x 1200 mm L |
| Gas control | 4 channels with PLC touchscreen |
| Power supply | 208–240 V AC, single phase; 10 kW |
Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.
Descripción del producto
The number and motion of source feed channels require confirmation for the selected configuration.
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Para compradores internacionales, la confirmación puede incluir configuración, accesorios, embalaje, documentos de exportación, fotos o videos de inspección y términos de envío.
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