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Deposición química de vapor (CVD)

OTF1200XSF2 Compact Two-Gas CVD Tube Furnace

ModeloOTF1200XSF2

A small quartz-tube furnace for laboratory CVD and controlled-atmosphere heating, with two adjustable gas channels and a 200 mm heated section.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Quartz tube 50 mm OD x 43 mm ID x 450 mm L
Heating zone 200 mm; uniform zone 60 mm at 900 °C
  • Configuración final confirmada antes de cotizar
  • Personalización y accesorios revisados según la aplicación
  • Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Datos técnicos

Especificaciones técnicas

Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Quartz tube 50 mm OD x 43 mm ID x 450 mm L
Heating zone 200 mm; uniform zone 60 mm at 900 °C
Gas channels 2 channels; 16–100 mL/min each
Temperature program 30 segments; ±1 °C

Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.

Descripción del producto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.