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Dépôt chimique en phase vapeur (CVD)

OTF1200XSF2 Compact Two-Gas CVD Tube Furnace

ModèleOTF1200XSF2

A small quartz-tube furnace for laboratory CVD and controlled-atmosphere heating, with two adjustable gas channels and a 200 mm heated section.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Quartz tube 50 mm OD x 43 mm ID x 450 mm L
Heating zone 200 mm; uniform zone 60 mm at 900 °C
  • Configuration finale confirmée avant devis
  • Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
  • Emballage export et documentation disponibles sur demande
Données techniques

Spécifications techniques

Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Quartz tube 50 mm OD x 43 mm ID x 450 mm L
Heating zone 200 mm; uniform zone 60 mm at 900 °C
Gas channels 2 channels; 16–100 mL/min each
Temperature program 30 segments; ±1 °C

Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.

Description du produit

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

Les détails d’achat peuvent être confirmés avant commande.

Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.

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