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Dépôt chimique en phase vapeur (CVD)

OTF-1200X-HVC3-series High-Vacuum CVD Furnace Workstation

ModèleOTF-1200X-HVC3-series

A quartz-tube CVD workstation combining programmable heating, three-gas mixing and high-vacuum pumping for deposition, diffusion and atmosphere-controlled thermal processing.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Heating zone 440 mm; uniform zone 150 mm (±1 °C)
Temperature program 30 segments; ±1 °C
  • Configuration finale confirmée avant devis
  • Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
  • Emballage export et documentation disponibles sur demande
Données techniques

Spécifications techniques

Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Heating zone 440 mm; uniform zone 150 mm (±1 °C)
Temperature program 30 segments; ±1 °C
System vacuum Down to 1 x 10^-4 Torr, with specified sealing assembly
Furnace power 208–240 V AC, single phase; 2.5 kW

Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.

Description du produit

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

Les détails d’achat peuvent être confirmés avant commande.

Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.

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