OTF-1200X-Mist Four-Gas Mist CVD Growth Furnace
A mist-assisted film-growth furnace with a 400 mm heating zone, ultrasonic atomization and four-channel mass-flow delivery for precursor and carrier-gas studies.
- Configuration finale confirmée avant devis
- Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
- Emballage export et documentation disponibles sur demande
Spécifications techniques
Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.
Key specifications
| Maximum temperature | 1200 °C |
|---|---|
| Heating zone | 400 mm; 125 mm uniform zone |
| Quartz tube | 60 mm OD x 54 mm ID x 1000 mm L |
| Atomization and feed | 1.7 MHz; 0.004–70 mL/min |
| Gas control | 4 MFC channels, 0–500 mL/min; ±0.2% FS |
Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.
Description du produit
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.
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