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Dépôt chimique en phase vapeur (CVD)

OTF-1200X-80-F3LV Single-Zone CVD Furnace with Gas Mixer

ModèleOTF-1200X-80-F3LV

An 80 mm quartz-tube CVD system with three gas channels, a mechanical vacuum pump and corrosion-resistant vacuum measurement for controlled-atmosphere experiments.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Quartz tube 80 mm OD x 75 mm ID x 1000 mm L
Heating zone 400 mm; uniform zone 150 mm
  • Configuration finale confirmée avant devis
  • Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
  • Emballage export et documentation disponibles sur demande
Données techniques

Spécifications techniques

Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Quartz tube 80 mm OD x 75 mm ID x 1000 mm L
Heating zone 400 mm; uniform zone 150 mm
Gas flow ranges 3 channels: 10–100, 16–160, 25–250 cc/min
Vacuum gauge range 10^-5–1000 Torr

Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.

Description du produit

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

Les détails d’achat peuvent être confirmés avant commande.

Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.

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