OTF-1200X-S-Mist Compact Ultrasonic Mist CVD Furnace
A short-zone mist CVD platform combining ultrasonic precursor atomization with a heated quartz tube and angled holders for small substrates.
- Configuration finale confirmée avant devis
- Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
- Emballage export et documentation disponibles sur demande
Spécifications techniques
Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.
Key specifications
| Maximum temperature | 1200 °C |
|---|---|
| Heating zone | 200 mm; 60 mm uniform zone |
| Quartz tube | 60 mm OD x 55 mm ID x 600 mm L |
| Atomization frequency | 1.7 MHz |
| Liquid feed rate | 0.004–70 mL/min |
| Substrate arrangement | 4 substrates, 10 x 10 x 0.5 mm; 45° holder |
Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.
Description du produit
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.
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