OTF-1200X-S-Mist Compact Ultrasonic Mist CVD Furnace
A short-zone mist CVD platform combining ultrasonic precursor atomization with a heated quartz tube and angled holders for small substrates.
- Финальная конфигурация подтверждается до предложения
- Настройка и аксессуары проверяются по применению
- Экспортная упаковка и документация доступны по запросу
Технические спецификации
Спецификации организованы по системам, чтобы разные типы оборудования показывали важные для применения параметры.
Key specifications
| Maximum temperature | 1200 °C |
|---|---|
| Heating zone | 200 mm; 60 mm uniform zone |
| Quartz tube | 60 mm OD x 55 mm ID x 600 mm L |
| Atomization frequency | 1.7 MHz |
| Liquid feed rate | 0.004–70 mL/min |
| Substrate arrangement | 4 substrates, 10 x 10 x 0.5 mm; 45° holder |
Спецификации могут изменяться в зависимости от конфигурации и настройки. Окончательные данные зависят от подтвержденного предложения.
Описание товара
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Для международных покупателей подтверждение может включать конфигурацию, аксессуары, упаковку, экспортные документы, фото или видео инспекции и условия доставки.
Больше из этой категории
OTF1200XSF2 Compact Two-Gas CVD Tube Furnace
OTF-1200X-Mist Four-Gas Mist CVD Growth Furnace
OTF1200XIII-PGEP Three-Zone Ultrasonic Spray Pyrolysis System
OTF-1200X-PGEP Tube-Furnace Spray Pyrolysis System
GSL-1800X-PGEP High-Temperature Spray Pyrolysis Furnace
OTF-1200X-4-NW-UL Solid-Precursor CVD Tube Furnace
OTF-1200X-HVC3-series High-Vacuum CVD Furnace Workstation
