الترسيب الكيميائي من البخار (CVD)

OTF-1200X-Mist Four-Gas Mist CVD Growth Furnace

Name: OTF-1200X-Mist Four-Gas Mist CVD Growth Furnace | LabSova
Brand: LabSova
SKU: OTF-1200X-Mist

النموذجOTF-1200X-Mist

A mist-assisted film-growth furnace with a 400 mm heating zone, ultrasonic atomization and four-channel mass-flow delivery for precursor and carrier-gas studies.

Maximum temperature 1200 °C

Heating zone 400 mm; 125 mm uniform zone

Quartz tube 60 mm OD x 54 mm ID x 1000 mm L

طلب عرض سعر عرض المواصفات

يتم تأكيد التكوين النهائي قبل عرض السعر
تتم مراجعة التخصيص والملحقات حسب التطبيق
تتوفر تعبئة التصدير والوثائق عند الطلب

اتصال فني مباشر

Email [email protected] WhatsApp +86 195 2233 7956 WeChat 195 2233 7956

بيانات فنية

المواصفات الفنية

تُنظم المواصفات حسب النظام حتى تعرض أنواع المعدات المختلفة المعايير المهمة لتطبيقها.

Key specifications

Maximum temperature	1200 °C
Heating zone	400 mm; 125 mm uniform zone
Quartz tube	60 mm OD x 54 mm ID x 1000 mm L
Atomization and feed	1.7 MHz; 0.004–70 mL/min
Gas control	4 MFC channels, 0–500 mL/min; ±0.2% FS

قد تتغير المواصفات حسب التكوين والتخصيص. تخضع البيانات النهائية للعرض المؤكد.

وصف المنتج

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

استفسار المنتج