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Deposición química de vapor (CVD)

OTF-1200X-HVC3-series High-Vacuum CVD Furnace Workstation

ModeloOTF-1200X-HVC3-series

A quartz-tube CVD workstation combining programmable heating, three-gas mixing and high-vacuum pumping for deposition, diffusion and atmosphere-controlled thermal processing.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Heating zone 440 mm; uniform zone 150 mm (±1 °C)
Temperature program 30 segments; ±1 °C
  • Configuración final confirmada antes de cotizar
  • Personalización y accesorios revisados según la aplicación
  • Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Datos técnicos

Especificaciones técnicas

Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Heating zone 440 mm; uniform zone 150 mm (±1 °C)
Temperature program 30 segments; ±1 °C
System vacuum Down to 1 x 10^-4 Torr, with specified sealing assembly
Furnace power 208–240 V AC, single phase; 2.5 kW

Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.

Descripción del producto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.