OTF-1200X-III-HPCVD-S3 Three-Zone Hybrid Deposition Furnace
A large-bore hybrid PVD/CVD platform for sequential deposition and co-evaporation studies, with three independently heated zones and separately controlled source feed channels.
- Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
- Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
- Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
Technische Spezifikationen
Spezifikationen sind nach System organisiert, damit unterschiedliche Gerätetypen die für ihre Anwendung relevanten Parameter darstellen können.
Key specifications
| Operating temperature | 100–1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h |
|---|---|
| Heating zones | 3 x 300 mm |
| Main quartz tube | 130 mm OD x 122 mm ID x 1200 mm L |
| Gas control | 4 channels with PLC touchscreen |
| Power supply | 208–240 V AC, single phase; 10 kW |
Spezifikationen können sich je nach Konfiguration und Anpassung ändern. Endgültige Daten unterliegen dem bestätigten Angebot.
Produktbeschreibung
The number and motion of source feed channels require confirmation for the selected configuration.
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Für internationale Käufer kann die Angebotsbestätigung Konfiguration, Zubehör, Verpackung, Exportdokumente, Inspektionsfotos oder -videos und Versandbedingungen umfassen.
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