الترسيب الكيميائي من البخار (CVD)

OTF-1200X-III-HPCVD-S3 Three-Zone Hybrid Deposition Furnace

Name: OTF-1200X-III-HPCVD-S3 Three-Zone Hybrid Deposition Furnace | LabSova
Brand: LabSova
SKU: OTF-1200X-III-HPCVD-S3

النموذجOTF-1200X-III-HPCVD-S3

A large-bore hybrid PVD/CVD platform for sequential deposition and co-evaporation studies, with three independently heated zones and separately controlled source feed channels.

Operating temperature 100–1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h

Heating zones 3 x 300 mm

Main quartz tube 130 mm OD x 122 mm ID x 1200 mm L

طلب عرض سعر عرض المواصفات

يتم تأكيد التكوين النهائي قبل عرض السعر
تتم مراجعة التخصيص والملحقات حسب التطبيق
تتوفر تعبئة التصدير والوثائق عند الطلب

اتصال فني مباشر

Email [email protected] WhatsApp +86 195 2233 7956 WeChat 195 2233 7956

بيانات فنية

المواصفات الفنية

تُنظم المواصفات حسب النظام حتى تعرض أنواع المعدات المختلفة المعايير المهمة لتطبيقها.

Key specifications

Operating temperature	100–1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heating zones	3 x 300 mm
Main quartz tube	130 mm OD x 122 mm ID x 1200 mm L
Gas control	4 channels with PLC touchscreen
Power supply	208–240 V AC, single phase; 10 kW

قد تتغير المواصفات حسب التكوين والتخصيص. تخضع البيانات النهائية للعرض المؤكد.

وصف المنتج

The number and motion of source feed channels require confirmation for the selected configuration.

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

استفسار المنتج