化学气相沉积（CVD）
OTF-1200X-III-HVC-LD 三温区高真空 CVD 工作站
型号OTF-1200X-III-HVC-LD
三温区管式炉结合四路质量流量供气和高真空站，适合同时需要温度梯度与受控气体组成的研究。
工作温度
连续 1100 °C；最高 1200 °C
加热区
3 × 300 mm；总长 900 mm
气体控制
4 路质量流量控制，数字显示
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 工作温度 | 连续 1100 °C；最高 1200 °C |
|---|---|
| 加热区 | 3 × 300 mm；总长 900 mm |
| 气体控制 | 4 路质量流量控制，数字显示 |
| 系统真空度 | 采用指定密封件可达 1 × 10^-4 Torr |
| 炉体供电 | 208–240 V AC，单相；7 kW |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
产品详情
订购前请与 LabSova 确认前驱体或样品兼容性、炉管及法兰配置、气体、抽气、冷却、排风和供电要求。图片可能包含选配附件，供货以双方确认配置为准。温度额定值不代表该温度下允许任意真空或压力条件。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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