PVD 与复合气相沉积炉
OTF-1200X-II-ZL 多源复合 PVD/CVD 炉
型号OTF-1200X-II-ZL
配顺序坩埚进样的双温区沉积炉，用于多层二维材料生长。源材料架可在受控气氛下移动至炉管的不同加热位置。
工作温度
连续 100–1100 °C；1200 °C 使用少于 1 小时
加热区
2 × 200 mm
源材料容量
4 个坩埚，顺序进样
- 报价前确认最终配置
- 根据应用确认定制和附件
- 可按需提供出口包装与文件
技术数据
技术规格
规格按系统分组，便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。
主要参数
| 工作温度 | 连续 100–1100 °C；1200 °C 使用少于 1 小时 |
|---|---|
| 加热区 | 2 × 200 mm |
| 源材料容量 | 4 个坩埚，顺序进样 |
| 坩埚行程 | 1–200 mm |
| 石英管 | 外径 60 × 内径 54 × 长 1000 mm |
规格可能随配置和定制要求变化，最终数据以确认后的报价为准。
产品详情
订购前请与 LabSova 确认前驱体或样品兼容性、炉管及法兰配置、气体、抽气、冷却、排风和供电要求。图片可能包含选配附件，供货以双方确认配置为准。温度额定值不代表该温度下允许任意真空或压力条件。
采购细节可在下单前确认。
确认需求
面向国际买家，报价确认可包含配置、附件、包装方式、出口文件、验货照片或视频以及运输条款。
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