OTF-1200X-II-ZL Multi-Source Hybrid PVD/CVD Furnace
A dual-zone deposition furnace with sequential crucible feeding for multilayer 2D material growth. The source holder moves through the heated tube under a controlled atmosphere.
- Configuration finale confirmée avant devis
- Personnalisation et accessoires étudiés selon l’application
- Emballage export et documentation disponibles sur demande
Spécifications techniques
Les spécifications sont organisées par système afin de présenter les paramètres pertinents pour chaque équipement.
Key specifications
| Operating temperature | 100–1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h |
|---|---|
| Heating zones | 2 x 200 mm |
| Source capacity | 4 crucibles, sequential feeding |
| Crucible travel | 1–200 mm |
| Quartz tube | 60 mm OD x 54 mm ID x 1000 mm L |
Les spécifications peuvent varier selon la configuration. Les données finales dépendent du devis confirmé.
Description du produit
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Pour les acheteurs internationaux, la confirmation du devis peut inclure configuration, accessoires, emballage, documents export, photos ou vidéos d’inspection et conditions d’expédition.
