OTF-1200X-II-ZL Multi-Source Hybrid PVD/CVD Furnace
A dual-zone deposition furnace with sequential crucible feeding for multilayer 2D material growth. The source holder moves through the heated tube under a controlled atmosphere.
- Configuração final confirmada antes da cotação
- Personalização e acessórios revisados pela aplicação
- Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Especificações técnicas
As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.
Key specifications
| Operating temperature | 100–1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h |
|---|---|
| Heating zones | 2 x 200 mm |
| Source capacity | 4 crucibles, sequential feeding |
| Crucible travel | 1–200 mm |
| Quartz tube | 60 mm OD x 54 mm ID x 1000 mm L |
As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.
Descrição do produto
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Para compradores internacionais, a confirmação pode incluir configuração, acessórios, embalagem, documentos de exportação, fotos ou vídeos de inspeção e termos de envio.
