PVD・ハイブリッド成膜炉
OTF-1200X-II-ZL Multi-Source Hybrid PVD/CVD Furnace
モデルOTF-1200X-II-ZL
A dual-zone deposition furnace with sequential crucible feeding for multilayer 2D material growth. The source holder moves through the heated tube under a controlled atmosphere.
Operating temperature
100–1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heating zones
2 x 200 mm
Source capacity
4 crucibles, sequential feeding
- 最終構成は見積前に確認
- 用途に応じてカスタムと付属品を確認
- 輸出梱包と書類は必要に応じて対応
技術データ
技術仕様
仕様はシステム別に整理され、設備タイプごとに重要なパラメータを表示します。
Key specifications
| Operating temperature | 100–1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h |
|---|---|
| Heating zones | 2 x 200 mm |
| Source capacity | 4 crucibles, sequential feeding |
| Crucible travel | 1–200 mm |
| Quartz tube | 60 mm OD x 54 mm ID x 1000 mm L |
仕様は構成やカスタム内容により変更される場合があります。最終データは確認済み見積に従います。
製品説明
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
発注前に調達条件を確認できます。
要件を確認
海外購入者向けに、構成、付属品、梱包方法、輸出書類、検査写真または動画、出荷条件を見積確認に含められます。
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