OTF-1200X-II-ZL Multi-Source Hybrid PVD/CVD Furnace
A dual-zone deposition furnace with sequential crucible feeding for multilayer 2D material growth. The source holder moves through the heated tube under a controlled atmosphere.
- Финальная конфигурация подтверждается до предложения
- Настройка и аксессуары проверяются по применению
- Экспортная упаковка и документация доступны по запросу
Технические спецификации
Спецификации организованы по системам, чтобы разные типы оборудования показывали важные для применения параметры.
Key specifications
| Operating temperature | 100–1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h |
|---|---|
| Heating zones | 2 x 200 mm |
| Source capacity | 4 crucibles, sequential feeding |
| Crucible travel | 1–200 mm |
| Quartz tube | 60 mm OD x 54 mm ID x 1000 mm L |
Спецификации могут изменяться в зависимости от конфигурации и настройки. Окончательные данные зависят от подтвержденного предложения.
Описание товара
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Для международных покупателей подтверждение может включать конфигурацию, аксессуары, упаковку, экспортные документы, фото или видео инспекции и условия доставки.
