OTF-1200X-II-ZL Multi-Source Hybrid PVD/CVD Furnace
A dual-zone deposition furnace with sequential crucible feeding for multilayer 2D material growth. The source holder moves through the heated tube under a controlled atmosphere.
- Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
- Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
- Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
Technische Spezifikationen
Spezifikationen sind nach System organisiert, damit unterschiedliche Gerätetypen die für ihre Anwendung relevanten Parameter darstellen können.
Key specifications
| Operating temperature | 100–1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h |
|---|---|
| Heating zones | 2 x 200 mm |
| Source capacity | 4 crucibles, sequential feeding |
| Crucible travel | 1–200 mm |
| Quartz tube | 60 mm OD x 54 mm ID x 1000 mm L |
Spezifikationen können sich je nach Konfiguration und Anpassung ändern. Endgültige Daten unterliegen dem bestätigten Angebot.
Produktbeschreibung
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Für internationale Käufer kann die Angebotsbestätigung Konfiguration, Zubehör, Verpackung, Exportdokumente, Inspektionsfotos oder -videos und Versandbedingungen umfassen.
