設備カテゴリ
化学気相成長（CVD）
成膜研究用の管状炉、ミストCVD装置、前駆体供給機器。
29 件の製品
OTF1200XSF2 Compact Two-Gas CVD Tube Furnace
OTF-1200X-S-Mist Compact Ultrasonic Mist CVD Furnace
OTF-1200X-Mist Four-Gas Mist CVD Growth Furnace
OTF1200XIII-PGEP Three-Zone Ultrasonic Spray Pyrolysis System
OTF-1200X-PGEP Tube-Furnace Spray Pyrolysis System
GSL-1800X-PGEP High-Temperature Spray Pyrolysis Furnace
OTF-1200X-4-NW-UL Solid-Precursor CVD Tube Furnace
OTF-1200X-HVC3-series High-Vacuum CVD Furnace Workstation
OTF-1200X-80-F3LV Single-Zone CVD Furnace with Gas Mixer
OTF-1200X-II-F3LV Dual-Zone CVD Furnace with Three-Gas Control
OTF-1200X-III-80-F3LV Three-Zone CVD Furnace with Gas Mixing
OTF-1200X-III-HVC-LD Three-Zone High-Vacuum CVD Workstation
このカテゴリの比較方法
まずプロセス要件を明確にし、動作範囲、チャンバーまたは作業サイズ、制御精度、付属品、ユーティリティ、輸送制約を比較します。
- 材料、サンプルサイズ、目標結果を確認します。
- 電圧、設置スペース、ユーティリティ要件を確認します。
- 付属品、予備部品、梱包、書類範囲を確認します。