設備カテゴリ
化学気相成長（CVD）
成膜研究用の管状炉、ミストCVD装置、前駆体供給機器。
29 件の製品
GSL-1100X-8.5-III-SR Large-Bore Three-Zone CVD Furnace
OTF-1200X-4-III-9HV Nine-Gas High-Vacuum CVD Furnace
OTF-1200X-S-50-DFSL Dual-Sliding Thermal CVD Furnace
OTF-1200X-III-HPCVD-S3 Three-Zone Hybrid Deposition Furnace
OTF-1200X-80-F3LV-PTFE Corrosion-Resistant CVD Furnace System
OTF-1200X-III-RR Roll-to-Roll CVD Film-Growth Furnace
GSL-1100X-III-D11 Large-Area Dual-Tube Graphene CVD Furnace
OTF-1200X-II-80HG-UL Humidity-Controlled CVD Tube Furnace
MIST-1600-6 Induction-Heated Mist LPCVD Reactor
GSL-1600X-CFM Continuous Carbon Nanotube Mist CVD System
OTF-1200X-III-5-C3LVSF Sliding-Flange Three-Zone CVD Furnace
GSL-1700X-PRY-UL-LD High-Temperature Vacuum-Regulated Tube Furnace
このカテゴリの比較方法
まずプロセス要件を明確にし、動作範囲、チャンバーまたは作業サイズ、制御精度、付属品、ユーティリティ、輸送制約を比較します。
- 材料、サンプルサイズ、目標結果を確認します。
- 電圧、設置スペース、ユーティリティ要件を確認します。
- 付属品、予備部品、梱包、書類範囲を確認します。