设备分类
化学气相沉积（CVD）
用于沉积研究的管式炉、雾化 CVD 系统及前驱体供给设备。
29 个可选产品
GSL-1100X-8.5-III-SR 大口径三温区 CVD 炉
OTF-1200X-4-III-9HV 九路气体高真空 CVD 炉
OTF-1200X-S-50-DFSL 双滑动热 CVD 管式炉
OTF-1200X-III-HPCVD-S3 三温区复合气相沉积炉
OTF-1200X-80-F3LV-PTFE 耐腐蚀气路 CVD 炉系统
OTF-1200X-III-RR 卷对卷 CVD 薄膜生长炉
GSL-1100X-III-D11 大面积双管石墨烯 CVD 炉
OTF-1200X-II-80HG-UL 湿度监测 CVD 管式炉
MIST-1600-6 感应加热雾化 LPCVD 反应系统
GSL-1600X-CFM 连续碳纳米管雾化 CVD 系统
OTF-1200X-III-5-C3LVSF 滑动法兰三温区 CVD 炉
GSL-1700X-PRY-UL-LD 高温真空调压管式炉
如何比较这个分类
先明确工艺需求，再比较工作范围、腔体或工作尺寸、控制精度、附件、公用条件和运输限制。
- 确认材料、样品尺寸和目标结果。
- 检查电压、安装空间和公用条件要求。
- 确认附件、备件、包装和文件范围。