设备分类
化学气相沉积（CVD）
用于沉积研究的管式炉、雾化 CVD 系统及前驱体供给设备。
29 个可选产品
GSL-1700X-F3LV 氧化铝管三路混气 CVD 炉
GSL-1700X-60-III-F3LV 三温区氧化铝管 CVD 炉
GSL-1700X-4-HVC-LD 高真空氧化铝管炉
LVD-F1 温控 CVD 液体汽化供给系统
MSKUSP17SP 雾化 CVD 超声前驱体发生器
如何比较这个分类
先明确工艺需求，再比较工作范围、腔体或工作尺寸、控制精度、附件、公用条件和运输限制。
- 确认材料、样品尺寸和目标结果。
- 检查电压、安装空间和公用条件要求。
- 确认附件、备件、包装和文件范围。