OTF-1200X-PEC4LV Four-Gas PECVD Tube Furnace
A compact split-tube PECVD system for thin films and nanowire research, with adjustable RF power, four-gas mixing and integrated mechanical vacuum.
- Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
- Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
- Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
Technische Spezifikationen
Spezifikationen sind nach System organisiert, damit unterschiedliche Gerätetypen die für ihre Anwendung relevanten Parameter darstellen können.
Key specifications
| Operating temperature | 1100 °C continuous; 1200 °C for <60 min |
|---|---|
| Heating zone | 440 mm; uniform zone 150 mm |
| Quartz tube options | 2 or 3.14 in OD; 48 in length |
| RF plasma source | 5–300 W; 13.56 MHz |
| Gas control | 4 MFC channels; touchscreen control |
Spezifikationen können sich je nach Konfiguration und Anpassung ändern. Endgültige Daten unterliegen dem bestätigten Angebot.
Produktbeschreibung
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Für internationale Käufer kann die Angebotsbestätigung Konfiguration, Zubehör, Verpackung, Exportdokumente, Inspektionsfotos oder -videos und Versandbedingungen umfassen.
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