B2B-подбор лабораторного оборудования Координация поставщиков · Техническое уточнение · Экспортная поддержка
Плазмохимическое осаждение (PECVD)

OTF-1200X-PEC4LV Four-Gas PECVD Tube Furnace

МодельOTF-1200X-PEC4LV

A compact split-tube PECVD system for thin films and nanowire research, with adjustable RF power, four-gas mixing and integrated mechanical vacuum.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <60 min
Heating zone 440 mm; uniform zone 150 mm
Quartz tube options 2 or 3.14 in OD; 48 in length
  • Финальная конфигурация подтверждается до предложения
  • Настройка и аксессуары проверяются по применению
  • Экспортная упаковка и документация доступны по запросу
Технические данные

Технические спецификации

Спецификации организованы по системам, чтобы разные типы оборудования показывали важные для применения параметры.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <60 min
Heating zone 440 mm; uniform zone 150 mm
Quartz tube options 2 or 3.14 in OD; 48 in length
RF plasma source 5–300 W; 13.56 MHz
Gas control 4 MFC channels; touchscreen control

Спецификации могут изменяться в зависимости от конфигурации и настройки. Окончательные данные зависят от подтвержденного предложения.

Описание товара

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

Детали закупки можно подтвердить до заказа.

Для международных покупателей подтверждение может включать конфигурацию, аксессуары, упаковку, экспортные документы, фото или видео инспекции и условия доставки.

Подтвердить требования
Связанное оборудование

Больше из этой категории