OTF-1200X-II-PE-RR Roll-to-Roll Plasma CVD Furnace
A continuous-substrate PECVD platform guides foil or wire between sealed chambers while controlling plasma power, transport speed and tension for film-growth research.
- Configuração final confirmada antes da cotação
- Personalização e acessórios revisados pela aplicação
- Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Especificações técnicas
As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.
Key specifications
| Operating temperature | 1100 °C continuous; 1200 °C for <60 min |
|---|---|
| Quartz tube | 80 mm OD x 72 mm ID x 1400 mm L |
| RF plasma source | 5–300 W; 13.56 MHz |
| Transport speed and width | 1–400 mm/min; up to 65 mm width with 80 mm tube |
| Tension control | 0–1000 g |
As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.
Descrição do produto
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Para compradores internacionais, a confirmação pode incluir configuração, acessórios, embalagem, documentos de exportação, fotos ou vídeos de inspeção e termos de envio.
Mais desta categoria
OTF-1200X-II-PEC4 Rotary Plasma-Enhanced Hybrid CVD Furnace
OTF-1200X-S50-PESL Compact Sliding PECVD Tube Furnace
OTF-1200X-S-II-PECVD Compact Rotary Powder PECVD Furnace
OTF1200XSDFPESL Dual-Sliding PECVD Deposition Furnace
OTF-1200X-II-50-PEMSL Auto-Sliding PECVD Furnace with Preheater
OTF-1200X-II-PEC4SL-LD Sliding Multi-Zone PECVD Workstation
OTF-1200X-PEC4LV Four-Gas PECVD Tube Furnace
