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等离子增强 CVD(PECVD)

OTF-1200X-III-R5-PECVD 连续进出料旋转粉末 PECVD 炉

型号OTF-1200X-III-R5-PECVD

旋转等离子 CVD 炉配自动粉末供给和密封收集,用于表面包覆及核壳颗粒研究,通过转速和倾角调节粉末在热区中的移动。

工作温度 工作温度 ≤1100 °C;最高 1200 °C
加热区 150 + 300 + 150 mm
转速与倾角 2–10 rpm; 0–15°
  • 报价前确认最终配置
  • 根据应用确认定制和附件
  • 可按需提供出口包装与文件
技术数据

技术规格

规格按系统分组,便于不同设备展示与其应用相关的重要参数。

主要参数

工作温度 工作温度 ≤1100 °C;最高 1200 °C
加热区 150 + 300 + 150 mm
转速与倾角 2–10 rpm; 0–15°
粉末装载量 翻动容积 5 L;建议装料 1–1.25 L
射频等离子源 5–300 W; 13.56 MHz
粉末供料速度 估计 0–97 mL/min

规格可能随配置和定制要求变化,最终数据以确认后的报价为准。

产品详情

订购前请与 LabSova 确认前驱体或样品兼容性、炉管及法兰配置、气体、抽气、冷却、排风和供电要求。图片可能包含选配附件,供货以双方确认配置为准。温度额定值不代表该温度下允许任意真空或压力条件。