OTF-PECVD-RF RF Plasma Generator for Tube Furnaces
An RF generator and matching assembly for adding plasma processing to compatible tube furnaces, supporting laboratory etching, cleaning and plasma-assisted deposition.
- Endkonfiguration vor Angebot bestätigt
- Anpassung und Zubehör nach Anwendung geprüft
- Exportverpackung und Dokumentation auf Anfrage verfügbar
Technische Spezifikationen
Spezifikationen sind nach System organisiert, damit unterschiedliche Gerätetypen die für ihre Anwendung relevanten Parameter darstellen können.
Key specifications
| Output power | 5–300 W; ±1% stability |
|---|---|
| RF frequency | 13.56 MHz; ±0.005% stability |
| Impedance matching | Automatic |
| Tube diameter options | 50, 80 or 125 mm OD |
| Power supply | 208–240 V AC; 50/60 Hz |
Spezifikationen können sich je nach Konfiguration und Anpassung ändern. Endgültige Daten unterliegen dem bestätigten Angebot.
Produktbeschreibung
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Für internationale Käufer kann die Angebotsbestätigung Konfiguration, Zubehör, Verpackung, Exportdokumente, Inspektionsfotos oder -videos und Versandbedingungen umfassen.
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