PECVD-8-16 Batch Wafer PECVD Pilot System
A capacitively coupled plasma deposition system uses a multi-slot graphite boat to process up to twelve 6-inch wafers in one heated quartz-tube batch.
- Финальная конфигурация подтверждается до предложения
- Настройка и аксессуары проверяются по применению
- Экспортная упаковка и документация доступны по запросу
Технические спецификации
Спецификации организованы по системам, чтобы разные типы оборудования показывали важные для применения параметры.
Key specifications
| Wafer capacity | 12 x 6 in wafers |
|---|---|
| Working temperature | 400–1100 °C |
| Heating zones | 3 x 300 mm; uniform zone 600 mm (±2 °C) |
| RF plasma source | 20–1000 W; 13.56 MHz |
| Gas control | 4 MFC channels; ±1.5% FS |
Спецификации могут изменяться в зависимости от конфигурации и настройки. Окончательные данные зависят от подтвержденного предложения.
Описание товара
A compatible vacuum pump is required and is specified separately.
Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.
Для международных покупателей подтверждение может включать конфигурацию, аксессуары, упаковку, экспортные документы, фото или видео инспекции и условия доставки.