الترسيب الكيميائي المعزز بالبلازما (PECVD)

PECVD-8-16 Batch Wafer PECVD Pilot System

Name: PECVD-8-16 Batch Wafer PECVD Pilot System | LabSova
Brand: LabSova
SKU: PECVD-8-16

النموذجPECVD-8-16

A capacitively coupled plasma deposition system uses a multi-slot graphite boat to process up to twelve 6-inch wafers in one heated quartz-tube batch.

Wafer capacity 12 x 6 in wafers

Working temperature 400–1100 °C

Heating zones 3 x 300 mm; uniform zone 600 mm (±2 °C)

طلب عرض سعر عرض المواصفات

يتم تأكيد التكوين النهائي قبل عرض السعر
تتم مراجعة التخصيص والملحقات حسب التطبيق
تتوفر تعبئة التصدير والوثائق عند الطلب

اتصال فني مباشر

Email [email protected] WhatsApp +86 195 2233 7956 WeChat 195 2233 7956

بيانات فنية

المواصفات الفنية

تُنظم المواصفات حسب النظام حتى تعرض أنواع المعدات المختلفة المعايير المهمة لتطبيقها.

Key specifications

Wafer capacity	12 x 6 in wafers
Working temperature	400–1100 °C
Heating zones	3 x 300 mm; uniform zone 600 mm (±2 °C)
RF plasma source	20–1000 W; 13.56 MHz
Gas control	4 MFC channels; ±1.5% FS

قد تتغير المواصفات حسب التكوين والتخصيص. تخضع البيانات النهائية للعرض المؤكد.

وصف المنتج

A compatible vacuum pump is required and is specified separately.

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

استفسار المنتج