الترسيب الكيميائي من البخار (CVD)

MIST-1600-6 Induction-Heated Mist LPCVD Reactor

Name: MIST-1600-6 Induction-Heated Mist LPCVD Reactor | LabSova
Brand: LabSova
SKU: MIST-1600-6

النموذجMIST-1600-6

A quartz-chamber deposition reactor with an induction-heated graphite stage for high-temperature thin-film growth on wafers up to 6 inches.

Operating temperature 1500 °C working; 1600 °C for <1 h

Wafer capacity Up to 6 in

Quartz chamber 216 mm OD x 500 mm H

طلب عرض سعر عرض المواصفات

يتم تأكيد التكوين النهائي قبل عرض السعر
تتم مراجعة التخصيص والملحقات حسب التطبيق
تتوفر تعبئة التصدير والوثائق عند الطلب

اتصال فني مباشر

Email [email protected] WhatsApp +86 195 2233 7956 WeChat 195 2233 7956

بيانات فنية

المواصفات الفنية

تُنظم المواصفات حسب النظام حتى تعرض أنواع المعدات المختلفة المعايير المهمة لتطبيقها.

Key specifications

Operating temperature	1500 °C working; 1600 °C for <1 h
Wafer capacity	Up to 6 in
Quartz chamber	216 mm OD x 500 mm H
Induction supply	15 kW; 30–100 kHz
Heated precursor vessel	100 mL; up to 150 °C

قد تتغير المواصفات حسب التكوين والتخصيص. تخضع البيانات النهائية للعرض المؤكد.

وصف المنتج

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.

استفسار المنتج