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Deposição química de vapor (CVD)

GSL-1100X-III-D11 Large-Area Dual-Tube Graphene CVD Furnace

ModeloGSL-1100X-III-D11

Concentric quartz tubes support metal-foil substrates for large-area graphene growth. A manual extractor withdraws the inner tube after processing to assist film handling.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heating zones 3 x 410 mm; 1230 mm total
Outer quartz tube 280 mm OD x 270 mm ID x 2070 mm L
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heating zones 3 x 410 mm; 1230 mm total
Outer quartz tube 280 mm OD x 270 mm ID x 2070 mm L
Inner quartz tube 254 mm OD x 244 mm ID x 2310 mm L
Power supply 220 V AC, three phase; 24 kW max

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Descrição do produto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.