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Deposición química de vapor (CVD)

GSL-1100X-III-D11 Large-Area Dual-Tube Graphene CVD Furnace

ModeloGSL-1100X-III-D11

Concentric quartz tubes support metal-foil substrates for large-area graphene growth. A manual extractor withdraws the inner tube after processing to assist film handling.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heating zones 3 x 410 mm; 1230 mm total
Outer quartz tube 280 mm OD x 270 mm ID x 2070 mm L
  • Configuración final confirmada antes de cotizar
  • Personalización y accesorios revisados según la aplicación
  • Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Datos técnicos

Especificaciones técnicas

Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C for <1 h
Heating zones 3 x 410 mm; 1230 mm total
Outer quartz tube 280 mm OD x 270 mm ID x 2070 mm L
Inner quartz tube 254 mm OD x 244 mm ID x 2310 mm L
Power supply 220 V AC, three phase; 24 kW max

Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.

Descripción del producto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.