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Deposição química de vapor (CVD)

OTF-1200X-80-F3LV-PTFE Corrosion-Resistant CVD Furnace System

ModeloOTF-1200X-80-F3LV-PTFE

A single-zone CVD furnace with PTFE flanges and gas mixing, plus a cold trap ahead of the pump for processes involving condensable or corrosive precursors.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Quartz tube 80 mm OD x 75 mm ID x 1000 mm L
Heating zone 400 mm; uniform zone 150 mm
  • Configuração final confirmada antes da cotação
  • Personalização e acessórios revisados pela aplicação
  • Embalagem de exportação e documentação disponíveis sob solicitação
Dados técnicos

Especificações técnicas

As especificações são organizadas por sistema para que diferentes tipos de equipamento apresentem os parâmetros relevantes para sua aplicação.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Quartz tube 80 mm OD x 75 mm ID x 1000 mm L
Heating zone 400 mm; uniform zone 150 mm
Gas-contact components PTFE flanges and three-channel mixer
Vacuum pumping 156 L/min two-stage rotary vane pump with cold trap

As especificações podem mudar conforme configuração e personalização. Os dados finais dependem da cotação confirmada.

Descrição do produto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.