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Deposición química de vapor (CVD)

OTF-1200X-80-F3LV-PTFE Corrosion-Resistant CVD Furnace System

ModeloOTF-1200X-80-F3LV-PTFE

A single-zone CVD furnace with PTFE flanges and gas mixing, plus a cold trap ahead of the pump for processes involving condensable or corrosive precursors.

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Quartz tube 80 mm OD x 75 mm ID x 1000 mm L
Heating zone 400 mm; uniform zone 150 mm
  • Configuración final confirmada antes de cotizar
  • Personalización y accesorios revisados según la aplicación
  • Embalaje de exportación y documentación disponibles bajo solicitud
Datos técnicos

Especificaciones técnicas

Las especificaciones se organizan por sistema para que diferentes tipos de equipos presenten los parámetros relevantes para su aplicación.

Key specifications

Operating temperature 1100 °C continuous; 1200 °C maximum
Quartz tube 80 mm OD x 75 mm ID x 1000 mm L
Heating zone 400 mm; uniform zone 150 mm
Gas-contact components PTFE flanges and three-channel mixer
Vacuum pumping 156 L/min two-stage rotary vane pump with cold trap

Las especificaciones pueden cambiar según configuración y personalización. Los datos finales están sujetos a la cotización confirmada.

Descripción del producto

Confirm precursor or sample compatibility, tube and flange configuration, gases, pumping, cooling, exhaust and electrical supply with LabSova before ordering. Images may show optional accessories; the agreed configuration defines supply. Temperature ratings do not imply that every vacuum or pressure condition is permitted at that temperature.